商号 | ナベプロセス株式会社 |
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設立 | 1979年1月 |
所在地 | 香川県高松市木太町2477-1 |
資本金 | 8,100万円 |
代表者 | 代表取締役社長/鍋坂信也 |
従業員 | 279名 |
役員 | 取締役会長/鍋坂忠男 代表取締役社長/鍋坂信也 専務取締役(大阪支社長)/中西宏暢 取締役(東京支社長)/鍋坂亮 監査役/鍋坂富士子 |
事業概要 | グラビア印刷用ロール製版 フレキソ印刷 フレキソ製版 デジタル印刷 企画デザイン |
事業所 | 本社 /香川県高松市木太町2477-1 エストロラボ /香川県高松市木太町2478 サテライトヒル/香川県木田郡三木町井上2876-33 十川工場 /香川県高松市十川東町468-1 大阪支社/大阪府大東市諸福4-5-5 東京支社/千葉県柏市柏インター南8-2 東京営業所/東京都千代田区神田須田町2-15 KSYビル5F 岡山営業所/岡山県岡山市南区藤田564-138 静岡営業所/静岡県富士市平垣483 第二美鳳堂ビル1F |
取引銀行 | 中国銀行 高松支店 百十四銀行 東支店 株式会社 日本政策金融公庫 高松支店 |
関連会社 | 有限会社 ナベプロ企画センター |
1979年 1月 | 高松市木太町2494-10にナベプロセス株式会社設立 代表取締役 鍋坂忠男 資本金1,500万円 |
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1980年 2月 | ナベプロセス株式会社は、ヤシマグラビア株式会社と合併 資本金2,700万円 代表取締役に鍋坂忠男が就任 |
1984年 2月 | 高松市木太町2466-3に新工場を建設 Helio-Klischograph K303システムとトータルブーメラン設備を導入 |
1985年 3月 | イスラエル製画像処理システムCEPS(SCITEX)を導入 |
1988年 8月 | 大阪府東大阪市箕輪に大阪工場を建設し画像処理システム(SCITEX)と製版設備を導入 |
1989年 7月 | 高松市木太町2460に本社第二工場(エストロニックラボ)完成 大型製版自動ライン・アルゴンレーザーCTC装置・電子彫刻システム・画像処理システム(SCITEX)らのデジタル製版機器を集約し大阪・高松間の画像データ転送を開始 |
1992年 3月 | 岡山市南区藤田564-138に岡山営業所を新築 画像処理システム(SCITEX)を導入 |
1995年 12月 | 高松市木太町2477-1に本社工場を新築移転 画像処理にARTPRO(MAC)を採用 レーザー製版工程の無人自動化を開始 |
1998年 5月 | 大阪工場を大阪府大東市諸福に新築移転 電子彫刻システム(VALCUS)と自動搬送装置GALを導入 彫刻製版の夜間無人運転を開始 |
1998年 9月 | 東京都千代田区岩本町に東京営業所を開設 4Sightにより各拠点のデジタル通信を開始 |
2001年 5月 | 高松本社にてISO JQA-QM6603承認習得 |
2002年 5月 | 高松東ファクトリーパーク内にサテライトヒル工場が完成 電子彫刻システム(HELL)とめっき設備をインライン化したTB21製版設備を採用し24時間無人運転を開始 新事業としてフレキソ印刷・製版事業を開始 |
2007年 9月 | 代表取締役に鍋坂秀樹が就任 柏市サイエンスパーク内に東京工場を新築 |
2009年 4月 | 中小企業庁 元気なモノ作り中小企業300社に選定される |
2009年 5月 | 静岡県富士市に静岡営業所を開設 |
2009年 6月 | 東京営業所を神田須田町に移転 |
2010年 9月 | 大阪府大東市諸福に大阪第二工場を建設 電子彫刻システム(VALCUS)とCNC旋盤装置を移設 |
2011年 9月 | 代表取締役に鍋坂信也が就任 大阪支社製版設備をフルリニューアル、ワルタースリムライン・NEWFX-BラインとCラインを導入 |
2012年 7月 | 全事業所がエコアクション21認定取得 |
2015年 6月 | 高松木太町2478にエストロラボを開設 ワルタースリムライン、XWB、AutoCONLineを導入 |
2016年 10月 | 新事業を“PS(パッケージサービス)課”として、エスラボ3階を使用しマスク封入作業から事業を開始。 |
2017年 10月 | フレキソ技術の急激な進化に合わせ、ESCO CDI-Crystal-5080-xpsを導入(アジア初の採用) 高松市十川東町468-1に十川工場を開設 十川工場にPS事業部を移転し、ピロー包装機・シュリンクトンネルを設備 |
2017年 11月 | 東京支社の増築・増設工事が完了 |
2019年 3月 | 経済産業省『地域未来牽引企業』に選定される |
2020年 12月 | 高松東ファクトリー内、サテライトヒル工場にフレキソ印刷棟を増設 ドイツ“ALLSTEIN社”の印刷機“HYDRO10+2”を日本国内で初めて導入 |
2021年 4月 | 資本金を8,100万円に増資 |
- グラビア製版の方式は大別するとレジスト膜をアブレーション描画しエッチングを行う「レーザー製版」と直接的に彫刻を行う「彫刻製版」の2つの方式があります。
- フレキソ印刷は樹脂などの弾性素材からなる版と液体インキを用いる凸版印刷方式です。
薄膜フィルムへの印刷見当精度や表面粗度の粗いものにも転移性が優れる環境対応型の印刷方式
- 従来のオフセット印刷と違い、印画紙・製版フィルムを使用しないため、納期の短縮とコスト削減を実現できます。
必要なときに・必要なものを・必要なだけ印刷できる新しい印刷方式です。
- グラビア製版で培った画像処理技術をコアとしてグラビア印刷品質に迫るフレキソ製版の提供を目指し、工場内に印刷機を併設する事業展開は、業界内でも注目されています。
- 入稿したデザインをコンバーティングに適した割り付けに展開したり、グラビアインキで印刷再現可能な色域へと調整を加えるなど、印刷工程で使いやすい刷版になるように編集を行います。
- ラミネートや製袋工程は所有していませんが、印刷後のフィルムの検品とスリット加工を設備することで、お客様から安心して印刷委託が頂ける環境の提供を行っています。
ナベプロセス株式会社 高松本社
- 〒760-0080
香川県高松市木太町2477-1
TEL:(087)833-7171
FAX:(087)862-3331
ナベプロセス株式会社 サテライトヒル
- 〒761-0705
香川県木田郡三木町2876-33
TEL:(087)840-2121
FAX:(087)840-2122